Революционная сила в очистке кремниевых пластин с помощью лазерной чистящей машины
2025,12,16
В сегодняшнюю эпоху быстрого технологического прогресса полупроводниковая промышленность, являющаяся ядром современных технологий, придает решающее значение каждому этапу производственного процесса.
Кремниевые пластины, как ключевой материал в производстве полупроводников, напрямую влияют на качество и производительность продукции благодаря чистоте поверхности.
Традиционные методы очистки кремниевых пластин, такие как химическая очистка и механическая чистка щеткой, хотя и способны в некоторой степени удалять загрязнения с поверхности пластин, имеют многочисленные недостатки.
Химическая очистка требует большого количества химических реагентов, что приводит к высоким затратам и загрязнению окружающей среды.
Механическая чистка легко царапает поверхность кремниевой пластины, что влияет на последующую обработку и использование. Появление технологии лазерной очистки коренным образом изменило эту ситуацию.
Лазерная чистящая машина предлагает бесконтактный метод очистки. Они используют лазерные лучи высокой плотности энергии для облучения поверхности кремниевой пластины, мгновенно удаляя грязь, оксидные слои и другие загрязнения, достигая очищающего эффекта.
Этот метод очистки не только быстрый и эффективный, но также не вызывает физического повреждения поверхности кремниевой пластины и не оставляет химических остатков, что делает его по-настоящему экологически чистой технологией очистки.