Privacy statement: Your privacy is very important to Us. Our company promises not to disclose your personal information to any external company with out your explicit permission.
Ключевые особенности
Высокая стабильность лазерного излучения: обеспечивает стабильную работу в различных промышленных условиях.
Высокая энергия одиночного импульса: обеспечивает до 1 мДж на импульс для глубокой и точной гравировки.
Регулируемые параметры импульса: обеспечивает гибкость при длительности импульса от 50 до 130 нс и частоте повторения от 20 до 200 кГц.
Превосходное качество луча: M² ≤ 1,6, подходит для задач с высоким разрешением и точной маркировки.
Конструкция с воздушным охлаждением: эффективное управление температурным режимом для работы без обслуживания.
Компактная структура: облегчает интеграцию в существующие системы.
Приложение
Обработка материалов
Лазерная маркировка
Глубокая гравировка
Очистка поверхности
Прецизионная сварка
Микрообработка
Резка и сверление тонкого металла
Лазерное писание
Текстурирование поверхности (матирование)
Обработка кремния
Подстройка резистора
Травление пленки ITO
The file is encrypted. Please fill in the following information to continue accessing it
Privacy statement: Your privacy is very important to Us. Our company promises not to disclose your personal information to any external company with out your explicit permission.
Fill in more information so that we can get in touch with you faster
Privacy statement: Your privacy is very important to Us. Our company promises not to disclose your personal information to any external company with out your explicit permission.